近日,我国自研的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”顺利通过验收。
该光刻机由中科院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到了22纳米,结合双重曝光技术,未来还可以应用于制造10纳米级别的芯片。
这次项目是在无国外经验可借鉴的情况下,突破了高均匀性照明,超分辨光刻镜头,纳米级分辨力检焦及间隙测量,超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,并且我国拥有完全自主知识产权。
c编程技巧之(c编程技术)
男子断三根手指(断三根手指算重伤吗)
唐艺昕青云志的角色(青云志唐艺昕演哪个角色)
如何打造垂直类内容短(垂直内容什么意思)
英搏尔低速电动汽车控制器(英博尔控制器3624调速)
第三代哈弗h6共推出了四个版本(第三代哈弗h6max和pro参数配置)