现阶段，，半导体芯片制程技术已经被挖掘殆尽，想要在更为前沿的制程节点上取得进展，单凭当下的FinFET晶体管、高K金属栅极等技术已经很难支撑下去，10nm、7nm、5nm以及3nm制程节点在现有技术框架下很难获得实际性的进展。
作为半导体领域的技术领先者，英特尔近些年来在前沿制程节点上投入了极大的研发力度。总体来说，在7nm以上制程节点上，EUV、III-V晶体管、新的材料、3D堆叠技术、自旋电子学等多维度新领域、新技术的研究是未来半导体芯片制程技术发展的关键。
英特尔正在进行的前沿领域研究
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