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简述氮化硅陶瓷产品的工艺(2)

2018-07-01 01:03:29 网络整理 阅读:180 评论:0

氮化硅为原料制备气压烧结结构件陶瓷的方法,它包括混料、压制、冷等静压、烧结以及后加工的步骤,陶瓷原料以重量百分比计,包括如下组分:si3n4:80-90%,y2o3:6-14%,α相al2o3:1-5%,wc:1-5%,tic:1-5%。该制备方法步骤简单、方便易行,制备工艺稳定,生产效率高,利用该方法制备的结构件陶瓷的硬度大、强度高,并且具有较高的耐高温性能、耐高电压冲击性能以及耐弯曲性能,可广泛用于材料要求高的领域,尤其用于高温陶瓷轴承以及陶瓷涡轮叶片

简述氮化硅陶瓷产品的工艺(2)

氮化硅陶瓷的应用

氮化硅陶瓷材料具有热稳定性高、抗氧化能力强以及产品尺寸精确度高等优良性能。由于氮化硅是键强高的共价化合物,并在空气中能形成氧化物保护膜,所以还具有良好的化学稳定性,1200℃以下不被氧化,1200~1600℃生成保护膜可防止进一步氧化,并且不被铝、铅、锡、银、黄铜、镍等很多种熔融金属或合金所浸润或腐蚀,但能被镁、镍铬合金、不锈钢等熔液所腐蚀。 氮化硅陶瓷材料可用于高温工程的部件,冶金工业等方面的高级耐火材料,化工工业中抗腐蚀部件和密封部件,机械加工工业的刀具和刃具等。 由于氮化硅与碳化硅、氧化铝、二氧化钍、氮化硼等能形成很强的结合,所以可用作结合材料,以不同配比进行改性。 此外,氮化硅还能应用到薄膜太阳能电池中。用PECVD法镀氮化硅膜后,不但能作为减反射膜可减小入射光的反射,而且,在氮化硅薄膜的沉积过程中,反应产物氢原子进入氮化硅薄膜以及硅片内,起到了钝化缺陷的作用。

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