无论是中芯国际的EUV订单、长江存储首台光刻机运抵或是华虹六厂首台光刻机搬入，都代表着三家半导体企业在芯片领域取得进展。
国内光刻机的发展现状
然而，我们可以看到，这三台光刻机无一例外都是从国外进口，在国内半导体产业快速发展的当下，国产光刻机的情况不容乐观。
光刻机是集成电路制造业最核心、技术门槛最高的设备，光刻环节是芯片生产流程中的最关键步骤，直接决定芯片的制程水平和性能水平，芯片在生产过程中需要进行20-30次的光刻，耗时占到制造环节的50%左右，占芯片生产成本的1/3。
目前全球仅有少数几家设备厂商掌握光刻机技术，如ASML、佳能、尼康、SUSS、ABM、Inc等，其中ASML在全球晶圆厂光刻机设备的市场份额高达8成，高端光刻机领域几乎被其垄断。
国内研发光刻机相关的企业有上海微电子装备有限公司（以下简称“上海微装”）、中国电子科技集团公司第四十五研究所、合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司，其中上海微装发展最为领先，是中国唯一一家生产高端前道光刻机整机的公司，从某种意义上可以说其代表着国产光刻机技术水平。
上海微装成立于2002年，其生产的光刻机包括晶圆制造、IC封装、面板、LED等，其中封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步。
然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装目前可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是目前国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm工艺制程 EUV光刻机，两者差距不得不说非常大。
事实上，12年前国家就已意识到发展光刻机的必要性。2006年..发布《国家中长期科学和技术发展规划纲要（2006-2020年）》确定发展16个重大专项，其中“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”被列为“02专项”，该专项于2008年..批准实施，并将EUV光刻技术列为“32-22nm装备技术前瞻性研究”重要攻关任务。
